半导体行业最不为人知的瓶颈位于德国南部小镇奥伯科亨，卡尔·蔡司半导体制造技术公司在这里生产用于每一台ASML极紫外光刻扫描仪的光学系统。没有蔡司的反射镜和透镜，它们是现存制造最精密的物体之一，ASML就无法交付任何一台EUV设备。过去几年中，这种依赖关系一直是制约EUV产出的关键因素，进而限制着全球产业生产先进芯片的能力。
蔡司半导体制造技术公司现已启用其奥伯科亨园区多年扩建计划中的第一座新建筑，新增约25,000平方米（约269,000平方英尺）的生产及生产配套空间。该建筑是计划中多座建筑的第一座，园区的基础工程于四年前启动。此次扩建正值ASML提高生产目标之际：这家荷兰公司现在预计在未来两年半内交付的光刻系统数量将远超原计划，其2026年营收预测已从2025年的327亿欧元上调至430亿至450亿欧元（约合490亿至510亿美元）。
ASML的2025年年度报告承认，其产量受到蔡司SMT产能的限制，这一事实在半导体设备供应链中广为人知，但很少被如此直接地表述。两家公司的合作关系已超过30年，ASML持有卡尔·蔡司SMT 24.9%的少数股权，作为长期产能和研发投资协议的一部分，收购价格为10亿欧元（约合11.4亿美元）。
奥伯科亨的扩建既涉及当前一代EUV光学器件，也涉及向高数值孔径（High-NA）系统的过渡，后者使用更大、更复杂的反射镜来实现3纳米以下芯片生产所需的更精细分辨率。高NA光学器件需要比当今EUV设备中主流的0.33 NA系统多得多的制造空间和更严格的公差。
更广泛的背景是，人工智能的繁荣推动了对尖端芯片前所未有的需求激增，这反过来又暴露了光刻供应链的脆弱性。ASML是EUV扫描仪的唯一供应商，蔡司是EUV光学器件的唯一供应商，通快（Trumpf）是驱动该过程的CO₂激光器的唯一供应商。其中任何一个环节都会制约整个链条。奥伯科亨的扩建表明，蔡司押注需求增长轨迹至少将持续未来十年。
来源：Tom’s Hardware（2026年7月26日）；EE Herald（2026年7月）；Heise Online（2026年7月15日）；ASML 2025年年度报告
婷 翻译